hrvatski

GISAXS analiza tankih filmova amorfnog i nanokristaliničnog silicija

Analizirana je struktura tankih filmova amorfnog i nanokristaliničcnog silicija korištenjem metode raspršenja X-zraka pod malim kutom (GISAXS - Grazing Incidence Small Angle X-ray Scattering). D GISAXS spektri snimljeni su na Austrijskoj SAXS liniji na sinhrotronu Elettra u Trstu koristeći X-zračenje energije 8 keV. Pri tome je mijenjan upadni kut X-zračenja počevši od kritičnog kuta za totalnu refleksiju kako bi se dobila informacija o strukturi kako na površini tako i u dubini filma. Tanki filmovi su modelirani kao mješavina nasumično orijentiranih nanokristala i šupljina uronjenih u amorfnu matricu. Pri tome je testirano nekoliko različitih oblika čestica (nanokristala i šupljina), te distribucija veličine čestica. Kao početne vrijednosti pri modeliranju korišteni su podaci dobiveni procjenom gustoće uzoraka na temelju optičkih mjerenja te rapodjela veličina kristalita određenih HRTEM-om (High Resolution Transmission Electron Microscopy). Podaci o veličini, distribuciji veličine čestica, te udjelu pojedinih komponenti dobiveni prilagodbom modela eksperimentalnim GISAXS rezultatima uspoređeni su sa rezultatima Raman i optičke spektroskopije.

GISXS; amorfni i nanokristalnični silicij; tanki filmovi

nije evidentirano